파우더 트랩(Powder Trap)

반도체 제조 설비의 파우더 트랩장치

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단위 공정이 이루어지는 공정 챔버와 진공 펌프를 연결시키는 배기 라인의 소정 부위에 형성되고 공정 챔버로부터 배출되는 배기 가스가 주입되는 가스 주입구 및 배출되는 가스 배출구가 형성된 몸체와, 몸체 내부에 형성되어 배기 가스에 포함된 파우더(Powder)를 트랩(Trap)시키는 트랩수단을 포함하는 반도체 제조 설비의 파우더 트랩장치로서, 가스 배출구의 내측 입구에는 트랩수단에 트랩되지 않은 파우더를 걸러내는 필터링(Filtering)수단이 더 형성되는 것을 특징으로 한다.

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이에 따르면, 가스 배출구의 내측에 필터링 수단이 형성되어 있음으로써, 트랩수단에 트랩되지 않은 파우더가 걸러진다. 따라서, 반도체 제조 설비의 파우더 제거 장치는 트랩수단에 트랩되지 않은 파우더가 가스 배출구를 통해 진공 펌프로 배출됨으로 인해, 진공 펌프의 수명이 감소되거나, 가스 배출구에 소정 시간동안 쌓여져 공정 챔버로부터 배기 가스의 배출이 원할하게 이루어지지 않는 등의 문제점이 발생되지 않는다.

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파우더, 배기 라인, 배기 가스, 트랩, 필터링

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101 : semiconductor manufacturing facility

102 : process chamber

103 : exhaust line

104 : powder trap device

104a,b : body

104c : gas inlet

104d : gas outlet

105 : vacuum pump

 

 

파우더 트랩(Powder Trap)